VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
產(chǎn)品概述:
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是*新研制開發(fā)的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。
主要特點:
l 可制備多種薄膜,應用廣泛
l 體積小,操作簡便
l 真空腔室、真空泵組整機模塊化設計
,控制電源為分體式設計,可根據(jù)用戶實際需要調(diào)整購買需求。
l 可根據(jù)用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍
磁控濺射頭:
l 儀器中安裝有3個磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層
l 其中一個濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
l 另一個濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導電性靶材
l 靶材尺寸要求:直徑為50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
l 可以單獨訂購RF連接線作為備用
l 設備包含一臺水冷機,用于靶頭冷卻
載樣臺:
l 載樣臺尺寸:φ140mm(*大可放 置4"的基底)
l 載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào))
l 載樣臺*高可加熱溫度為500℃
真空腔體:
l 真空腔體:φ300 mm×300 mm H,采用不銹鋼制作
l 觀察窗口:Φ100 mm
l 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易
氣體流量控制器:
l 儀器內(nèi)部安裝有2個質(zhì)量流量計,量程為:0-100sccm
l 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作
l 此系統(tǒng)運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設備中不包含)
真空系統(tǒng):
l 配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)(德國制作)
l 標準5E-5mbar 極限7.4E-6mbar
薄膜測厚:
l 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝
在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?
l LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
產(chǎn)品外形尺寸:
l L1300mm×W660mm H1200mm
l 凈重:160 kg
質(zhì)量認證:CE認證
使用提示:
l 此設備為DIY設備,參數(shù)變化較大購買前請務必電話仔細溝通
l 為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N)
l 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
l 要達到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面
l 超聲波清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥 (4)真空烘箱除去水分。
l 等離子清洗:可表面粗糙化,可激活表面化學鍵,可祛除額外的污染物。
l 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應用于改善金屬和合金的附著力。
警示:
l 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體
l 氣瓶上應安裝減壓閥(設備標配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕
l 濺射頭連接到高電壓。為了**,操作者必須在關(guān)閉設備前裝樣和更換靶