VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品概述:
VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。
主要參數(shù):
l 輸入電源:220V AC 50Hz
l 輸出電壓:600 VDC
l 輸出功率:*大500W
l 整機功率:1000W(包括真空泵)
濺射腔體:
l 采用石英腔體,尺寸:166mm OD x 150mm ID x250mm H(配置直靶頭)
l 尺寸:166mm OD x 150mm ID x290mm H(配置帶角度傾斜靶頭)
l 密封法蘭:直徑為165mm,采用金屬制作,密封采用O形密封圈
濺射頭&樣品臺:
l 濺射頭安裝靶材直徑為2英寸,同時可選配1英寸濺射頭
l 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺,其與濺射頭之間距離可調(diào)
l 樣品臺可加熱,加熱溫度RT-500℃(RT為室溫)
l 安裝有一可手動操作的擋板
l *大可制膜的直徑為:2英寸(標(biāo)配2英寸,如果需要更大尺寸請與我們銷售聯(lián)系)
真空系統(tǒng):
l 安裝有KF25真空接口
l 數(shù)字真空壓力表(Pa)
l 此系統(tǒng)運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含)
l 采用機械泵< 3.8E-2 Torr(參考值,詳情請點擊)
l 采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值,詳情請點擊)
l 可在本公司選購各種真空泵
進氣:
l 設(shè)備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
l 設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,方便調(diào)節(jié)氣流
靶材:
l 靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度)
l 可在本公司選購各種靶材
薄膜測厚儀(可選):可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
產(chǎn)品外形尺寸:
540mm L x540 mm W x1100mm H
凈重:70 kg(不包括泵)
質(zhì)量認證:CE認證
l 使用提示:
有時為了達到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜
l 為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N)
l 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
l 要達到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面
l 超聲波清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮氣干燥(4)真空烘箱除去水分。
l 等離子清洗(詳細參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物。
l 制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。
警告:
l 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機體。
l 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標(biāo)配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕
濺射頭連接到高電壓。為了**,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶